PVD镀膜技术的基本原理

物理气相沉积（PVD）是一种重要的薄膜沉积技术，广泛应用于电子、光学及工具涂层等领域。其基本原理是通过物理方法将气态材料沉积在基材表面，形成一层均匀的薄膜。PVD技术具有优良的附着力和耐磨性，能够显著提升产品的性能和使用寿命。